지아이셀이 자가면역질환 치료용 조절 T세포의 대량 배양 기술에 대한 국내 특허를 취득했다고 30일 밝혔다.

조절 T세포는 면역억제 조절을 통해 면역계의 항상성을 유지하는 세포로 자가면역질환과 같은 면역체계의 불균형에 따른 질환의 치료제로써 각광받고 있다.

하지만 전체 T세포군 중 조절 T세포의 비율은 약 2~3% 정도로 매우 적어 세포의 분리와 배양이 까다롭고, 배양과정에서 조절 T세포의 성질을 잃어버리기 쉬워 치료제 개발에 어려움이 있다.

지아이셀은 조절 T세포의 기능을 높게 유지함과 동시에 생산성을 갖춘 독보적이고 차별화된 배양 기술을 통해 이를 극복했다.

실제 조절 T세포의 기능을 확인할 수 있는 표지 인자인 FoxP3는 세포가 배양되는 과정에서 계속 발현되는 것이 핵심으로 지아이셀은 배양이 끝난 시점에도 거의 모든 세포에서 FoxP3의 발현이 유지되는 것을 확인했다.

또 동시에 조절 T세포의 배양을 연구단계에서 최대 수백억 개의 세포로 배양하는데 성공했다.

이밖에도 개발 중인 조절 T세포는 특정 장기나 염증 병변에 표적화 되도록 표면수용체 발현이 조절된 형태로 보다 효과적으로 병변내 염증반응을 억제시킬 수 있다는 게 회사측의 설명이다.

지아이셀 홍천표 대표이사는 "이번 특허는 독자적인 배양 보조 물질과 제조방법으로 세포의 성질 변화 없이 대량의 고활성 조절 T세포를 제조해 기존 조절 T세포 생산 기술의 한계를 극복한 점을 인정받았다"며 "Drone Treg 플랫폼 기술을 활용해 다양한 자가면역질환 세포치료제 개발에 박차를 가할 것"이라고 전했다.